| 摘要 |
一种正型光阻材料，其为含有（A）基于酸之作用而形成对硷显影液为可溶之树脂成份，与（B）感应活性光线或放射线而发生酸之化合物，其中，树脂成份（A）为具有下述通式（1）所表示之重复单位的高分子化合物，且，化合物（B）为下述通式（2）所表示之 盐化合物之正型光阻材料。#P 097100691P01.bmp（R#sP!1#eP!为H、甲基或三氟甲基。R#sP!2#eP!为1价烃基。m为2或3。n为1或2。p为0、1或2。a、b、c为0.01以上未达1，a+b+c=1）。#P 097100691P02.bmp（R#sP!3#eP!、R#sP!4#eP!、R#sP!5#eP!为H，或1价烃基。R#sP!6#eP!为1价烃基）。本发明之正型光阻材料，可提供具有较高之解析性，较小之线路侧壁不均（Line Edge Roughness）与较高矩形性之图型，故极适用于精密之微细加工。 |
