利用清洁溶液清洁半导体晶圆的方法

摘要

本发明关于一种使用初始组成含有铵硷性组分的清洁溶液的清洁半导体晶圆的方法，其中于一个别晶圆处理中使该半导体晶圆与该清洁溶液接触，且在清洁的过程中添加氟化氢至该清洁溶液中作为进一步的组分，并且该清洁溶液在清洁结束时具有不同于初始组成的组成。