Vorrichtung zur Wafer-Inspektion

摘要

Es ist eine Vorrichtung zur Inspektion eines Wafers (23) offenbart. Dazu ist mindestens eine Beleuchtungseinrichtung (20) vorgesehen, die in jeweils einem Beleuchtungsstrahlengang (20a) jeweils einen Beleuchtungslichtstrahl auf eine Oberfläche (22) des Wafers (23) abstrahlt. Mit einer Detektoreinrichtung (21) wird ein Detektionsstrahlengang (21a) festgelegt, wobei die Detektoreinrichtung (21) eine vorgegebene spektrale Empfindlichkeit aufweist und Daten von mindestens einem beleuchteten und in einer Scannrichtung bewegenden Bereich (26) auf der Oberfläche (22) des Wafers (13) in einer Mehrzahl von unterschiedlichen Spektralbereichen erfasst. Die mindestens eine Beleuchtungseinrichtung (20) ist eine Dauerlichtquelle.