处理系统、处理方法及记忆媒体

摘要

本发明提供一种可容易地调整气体流量之处理系统、处理方法及程式。于纵型热处理装置1中设置有复数个气体供给管16~20，该等系将处理气体供给至收容半导体晶圆Ｗ之反应管2内。气体供给管16~20之流量由流量调整部21~25所控制。控制部50中记忆有包括处理气体之流量之制程条件、以及表示处理气体之流量与膜厚之关系的膜厚流量关系模式。控制部50根据在制程条件下处理半导体晶圆Ｗ之处理结果以及膜厚流量关系模式，而计算出处理气体之流量，并控制流量调整部21~25，以将处理气体之流量变更为所计算出之处理气体之流量后，再处理半导体晶圆Ｗ。