ＳｎＯ系溅镀靶及溅镀膜

摘要

揭示着可得到一面减低溅镀中的异常放电，一面即使没有加热处理也具有低膜电阻系数，而且其后的加热处理的电阻系数变化小，耐热性上优异的溅镀膜的抗弯强度优异且实质上没有凝聚相的SnO#sB!2#eB!系溅镀靶。本发明的SnO#sB!2#eB!系溅镀靶，是含有1.5至3.5质量％的Ta#sB!2#eB!O#sB!5#eB!，及0.25至2质量％的Nb#sB!2#eB!O#sB!5#eB!，及作为剩余部分的SnO#sB!2#eB!及不可避免的杂质所成的烧结体所构成。