发明名称 高效整流器
摘要 一种高效功率半导体整流器元件10包含δP++层(12),P-本体(14),N-漂移区(16),N+基板(18),阳极(20),及阴极(22)。元件(10)之制造方法包括下列步骤:沉积N-漂移区(16)在N+基板(18)上;将硼植入N-漂移区(16),以产生P-本体区(14);形成矽化钛层(56)在P-本体区(14)上;及密化在矽化钛层(56)和P-本体区(14)之间的介面区之植入硼的部分,以产生过饱和P型掺杂矽之δP++层(12)。
申请公布号 TW200901462 申请公布日期 2009.01.01
申请号 TW097107982 申请日期 2008.03.07
申请人 达尔公司 发明人 罗马J 哈默斯奇;陈泽瑞;洪文辉詹姆士;强尼杜克凡钦;克里斯多福D 何路斯卡;提摩西伊士曼
分类号 H01L29/68(2006.01);H01L21/334(2006.01) 主分类号 H01L29/68(2006.01)
代理机构 代理人 何金涂;王彦评
主权项
地址 美国