发明名称 |
一种产生超强太赫兹辐射的装置及方法 |
摘要 |
本发明涉及一种产生高功率太赫兹辐射的装置及方法,其装置包括一气体填充管;一电离激光器,用于输出电离激光脉冲,以在所述气体填充管中形成真空层和电离气体层;以及一泵浦激光器;用于输出泵浦激光脉冲,以激发出多个相干的太赫兹辐射并最终叠加成一个超强太赫兹辐射。本发明具有如下技术效果:本发明采用的等离子体本身是完全电离的准中性介质,不存在被入射激光损坏的阈值,可以产生100MW量级的THz辐射;通过两个入射激光脉冲间适当时间延迟控制,来控制腔管内气体密度的分布,使腔管内产生的单周期太赫兹脉冲实现相干叠加放大,产生准单周期的THz脉冲;转换效率大幅提高,并且可在台面尺度产生超强THz辐射。 |
申请公布号 |
CN101335425A |
申请公布日期 |
2008.12.31 |
申请号 |
CN200710117813.9 |
申请日期 |
2007.06.25 |
申请人 |
中国科学院物理研究所 |
发明人 |
盛政明;武慧春;张杰 |
分类号 |
H01S3/108(2006.01);H01S3/098(2006.01);H01S3/081(2006.01);H01S1/00(2006.01) |
主分类号 |
H01S3/108(2006.01) |
代理机构 |
北京泛华伟业知识产权代理有限公司 |
代理人 |
高存秀 |
主权项 |
1、一种产生超强太赫兹辐射的装置,包括一气体填充管;一电离激光器,用于输出电离激光脉冲,以在所述气体填充管中形成真空层和电离气体层;以及一泵浦激光器;用于输出泵浦激光脉冲,所述泵浦激光脉冲通过所述气体填充管的侧壁多次反射,反复作用到所述电离气体层。 |
地址 |
100080北京市海淀区中关村南三街8号 |