发明名称 半开放式立体虚像成像设备
摘要 本发明公开了一种半开放式立体虚像成像设备,包括一成像装置,一反射膜,由无色透明介质形成,具有部分透明、部分反射光学特性,倾斜设置在成像装置的光路上;一框架,用于以一定角度倾斜设置反射膜;框架在外侧面上还设置有遮光板。本发明的设备还在虚像成像面后部设置有深色背景板。本发明由于配置了遮光板和深色背景板,有效解决了外界光线对反射膜的光干扰,在虚像立体清晰的前提下较好地消除了虚像成像面上的灰白色背景,使整台设备在使用中获得了逼真的视觉效果,可以广泛应用在广告、展示、演艺、会议、宣传等领域。
申请公布号 CN101334583A 申请公布日期 2008.12.31
申请号 CN200710042940.7 申请日期 2007.06.28
申请人 曾文捷 发明人 曾文捷
分类号 G03B21/28(2006.01);G02B5/08(2006.01);G02B7/188(2006.01);A63J5/02(2006.01) 主分类号 G03B21/28(2006.01)
代理机构 上海恩田旭诚知识产权代理有限公司 代理人 刘峰
主权项 1、一种半开放式立体虚像成像设备,包括:一成像装置,用于提供实像像源;一反射膜,由无色透明介质形成,具有部分透明、部分反射光学特性,倾斜设置在所述成像装置的光路上;一框架,用于以一定角度倾斜设置所述反射膜;其特征在于:所述框架在外侧面上还设置有遮光板,所述遮光板用于遮挡外界光线对所述反射膜的光干扰。
地址 200240上海市闵行区沧源路655弄金榜世家11号602室