发明名称 |
半开放式立体虚像成像设备 |
摘要 |
本发明公开了一种半开放式立体虚像成像设备,包括一成像装置,一反射膜,由无色透明介质形成,具有部分透明、部分反射光学特性,倾斜设置在成像装置的光路上;一框架,用于以一定角度倾斜设置反射膜;框架在外侧面上还设置有遮光板。本发明的设备还在虚像成像面后部设置有深色背景板。本发明由于配置了遮光板和深色背景板,有效解决了外界光线对反射膜的光干扰,在虚像立体清晰的前提下较好地消除了虚像成像面上的灰白色背景,使整台设备在使用中获得了逼真的视觉效果,可以广泛应用在广告、展示、演艺、会议、宣传等领域。 |
申请公布号 |
CN101334583A |
申请公布日期 |
2008.12.31 |
申请号 |
CN200710042940.7 |
申请日期 |
2007.06.28 |
申请人 |
曾文捷 |
发明人 |
曾文捷 |
分类号 |
G03B21/28(2006.01);G02B5/08(2006.01);G02B7/188(2006.01);A63J5/02(2006.01) |
主分类号 |
G03B21/28(2006.01) |
代理机构 |
上海恩田旭诚知识产权代理有限公司 |
代理人 |
刘峰 |
主权项 |
1、一种半开放式立体虚像成像设备,包括:一成像装置,用于提供实像像源;一反射膜,由无色透明介质形成,具有部分透明、部分反射光学特性,倾斜设置在所述成像装置的光路上;一框架,用于以一定角度倾斜设置所述反射膜;其特征在于:所述框架在外侧面上还设置有遮光板,所述遮光板用于遮挡外界光线对所述反射膜的光干扰。 |
地址 |
200240上海市闵行区沧源路655弄金榜世家11号602室 |