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发明名称 CYCLIC COMPOUND, PHOTORESIST BASE MATERIAL AND PHOTORESIST COMPOSITION
摘要 <p>Disclosed is a cyclic compound represented by the following formula (I).</p>
申请公布号 WO2008153154(A1) 申请公布日期 2008.12.18
申请号 WO2008JP60905 申请日期 2008.06.13
申请人 IDEMITSU KOSAN CO., LTD.;SHIBATA, MITSURU;OWADA, TAKANORI;YOMOGITA, AKINORI;KASHIWAMURA, TAKASHI;SEKIKAWA, MASASHI;TOMOTSU, NORIO;ISHII, HIROTOSHI 发明人 SHIBATA, MITSURU;OWADA, TAKANORI;YOMOGITA, AKINORI;KASHIWAMURA, TAKASHI;SEKIKAWA, MASASHI;TOMOTSU, NORIO;ISHII, HIROTOSHI
分类号 C07C69/767;G03F7/039;H01L21/027 主分类号 C07C69/767
代理机构 代理人
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