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<P>COMPOSITION PHOTOSENSIBLE DESTINEE EN PARTICULIER, A LA REALISATION DE PLAQUES LITHOGRAPHIQUES DEVELOPPABLES PAR DES SOLUTIONS AQUEUSES ET NE NECESSITANT QU'UN TEMPS TRES COURT D'INSOLATION.</P><P>CETTE COMPOSITION COMPREND UNE RESINE EPOXY-ACRYLATE LIQUIDE OU VISQUEUSE, UN ACRYLATE OU METHACRYLATE DE POLYOL ET AU MOINS UN PHOTOSENSIBILISATEUR.</P><P>LA COMPOSITION ET LES PLAQUES LITHOGRAPHIQUES DE L'INVENTION SONT DESTINEES, EN PARTICULIER, A LA REPRODUCTION OFFSET.</P>
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