| 主权项 |
1.一种获氧化铈的方法,其特征在于其包括:(1)制备一氢氧化铈,系可能地在一氧化剂之存在下,反应一铈盐溶液与一硷,硷之该比例必须为使该反应介质之该pH超过7;接着分离所获得之该沈淀物,可能地洗涤之;(2)悬浮该氢氧化铈在水或在一可分解硷之一水溶液中;(3)将其在一密闭室中加热至一温度及压力,其各别在该介质之该临界温度及临界压力以下;(4)冷却该反应介质并将其回复至大气压;(5)分离经由上述处理之该氢氧化铈;(6)然后将其 烧。2.依据申请专利范围第1项所述之方法,其特征在于该铈盐溶液系为在该亚铈或铈态之氯化亚铈或硝酸铈之一溶液或其之一混合物。3.依据申请专利范围第1项所述之方法,其特征在于铈盐溶液系为一硝酸铈水溶液,或被使用于一氧化剂之存在下,为硝酸亚铈水溶液。4.依据申请专利范围第3项所述之方法,其特征在于该铈盐溶液系为自一硝酸亚铈溶液经电化学氧化或自硝酸对一水合氧化铈作用所独得之一硝酸铈溶液。5.依据申请专利范围第1.2.3.或4项所述之方法,其特征在于硷系为一氨溶液。6.依据申请专利范围第3项所述之方法,其特征在于该氧化剂系为一过氧化氢。7.依据申请专利范围第1.2.3.或4项所述之方法,其特征在于所加硷之该量系必须使该反应介质之该pH在7.0以上及约10以下。8.依据申请专利范围第7项所述之方法,其特征在于该pH系由7.5至9.0。9.依据申请专利范围第1.2.3.或4项所述之方法,其特征在于该反应介质之该温度系由5至70℃。10.依据申请专利范围第9项所述之方法,其特征在于该反应介质之该温度系由40至70℃。11.依据申请专利范围第1.2.3.或4项所述之方法,其特征在于所分离之该氢氧化铈系以水或以一硷溶液来洗涤。12.依据申请专利范围第1项所述之方法,其特征在于该氢氧化铈系为下列公式所示:Ce(OH)x(X)y,nH2O(Ⅰ)其中:x表示一氯或硝酸根阴离子,y系少于0.5,x=4-yn为由0至约20之范围13.依据申请专利范围第12项所述之方法,其特征在于该氢氧化铈系依照公式(Ⅰ),其中y为由0至0.1。14.依据申请专利范围第13项所述之方法,其特征在于该公式(Ⅰ)之氢氧化铈之制备系在过氧化氢之存在上,及在由7.5至9.0之pH及由40至70℃之温度下来反应氯或硝酸亚铈溶液与氨溶液,分离该沈淀物并将其洗涤。15.依据申请专利范围第1项所述之方法,其特征在于该可分解硷系氨、尿素、碳酸氢铵、碳酸铵、伯,仲,叔或季胺或其混合物。16.依据申请专利范围第15项所述之方法,其特征在于该可分解硷系为氨,四烷基铵化氢氧或其混合物。17.依据申请专利范围第15或16项所述之方法,其特征在于该硷溶液之该浓度范围系由1至10N。18.依据申请专利范围第1项所述之方法,其特征在于以Ceo2表示之氢氧化铈之铈之该浓度范围系由0.3至6莫耳/升。19.依据申请专利范围第18项所述之方法,其特征在于该浓度由2由3莫耳/升。20.依据申请专利范围第1项所述之方法,其特征在于该压热器处理温度范围系由100至350℃。21.依据申请专利范围第20项所述之方法,其特征在于该温度系由150至350℃。22.依据申请专利范围第1,20或21项所述之方法,其特征在于该压力范围系由1(1.105pa)至165巴(165.105pa)。23.依据申请专利范围第22项所述之方法,其特征在于该压力范围系由5(5.105pa)至165巴(165,105pa)。24.依据申请专利范围第1项所述之方法,其特征在于该压热器处理时间范围系由30分钟至6小时。25.依据申请专利范围第1,2,3或4项所述之方法,其特征在于 烧温度系由300至1000℃。26.依据申请专利范围第25项所述之方法,其特征在于该温度系由350至800℃。27.依据申请专利范围第24项所述之方法,其特征在于该 烧时间系由2至6小时。28.一种氧化铈,其特征在于具有至少15.m2/g之该比表面积,此系在由800至900℃之该温度下 烧后所测定者。29.依据申请专利范围第28项所述之氧化铈,其特征在于该氧化铈具有由20.至60.m2/g之该比表面积,其系于800℃之该温度 烧后所测定者。30.依据申请专利范围第28或29项所述之氢化铈,其特征在于该氧化铈在800至900℃之该温度 烧后,被测定具有至少0.1cm3/g之该孔隙度。31.依据申请专利范围第30项所述之氧化铈,其特征在于该氧化铈在800℃之该温度下 烧后,具有由0.15至0.25cm3/g之该孔隙度。32.依据申请专利范围第28项所述之氧化铈,其特征在于该氧化铈在800℃ 烧后,具有由20.nm(200 )至30.nm(300 )之该平均孔隙直径。33.依据申请专利范围第28或29项所述之氧化铈,其特征在该氧化铈在350至900℃之该温度 烧后,被测定为具有由15.至160m2/g之该比表面积。34.依据申请专利范围第33项所述之氧化铈,其特征在于该该化铈在350至900℃之该温度下 烧后,其有由0.35至0.15cm3/g之该孔隙度。35.一种氧化铈,其特征在于该氧化铈在350至450℃之该温度下 烧后,被测定为具有由70.至160m2/g之该比表面积;以及当该氧化铈被加以由800至900℃之该温度时,其保持至少15.m2/g之该比面积。36.依据申请专利范围第35项所述之氧化铈,其特征在于当该氧化铈被加以800℃之该温度时,其保持20.至60.m2/g之该比表面积。37.依据申请专利范围第35或36项所述之氧化铈,其特征在于该氧化铈在350至450℃之该温度下 烧后,被测定为具有由100至160m2/g之该比表面积。38.依据申请专利范围第35项所述之氧化铈,其待徵在于该氧化铈在350℃ 烧后,具有由10.nm(100 )至20.nm(200 )之该平均孔隙直径。图示简单说明:图1为一图,其曲线(A)表不依照本发明之一氧化铈之比表面积(以m2/g表示)的变动,作为 烧温度(℃)之一函数。 |
