发明名称 SUBSTRATE FOR PHOTOLITOGRAPHICALLY FORMED MASK
摘要
申请公布号 CS8808928(A1) 申请公布日期 1990.08.14
申请号 CS19880008928 申请日期 1988.12.29
申请人 KACER JAN ING.,CS;ANDRS VLADIMIR ING.,CS;MITROVA MILENA,CS;MALY LADISLAV,CS;POJMAN PAVEL ING.,CS;SEBELA MIROSLAV RNDR.,CS;ZAMASTIL JAROSLAV RNDR.,CS 发明人 KACER JAN ING.,CS;ANDRS VLADIMIR ING.,CS;MITROVA MILENA,CS;MALY LADISLAV,CS;POJMAN PAVEL ING.,CS;SEBELA MIROSLAV RNDR.,CS;ZAMASTIL JAROSLAV RNDR.,CS
分类号 C03C1/00;C03C17/40;G03F1/00;H01L21/00;(IPC1-7):C03C1/00 主分类号 C03C1/00
代理机构 代理人
主权项
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