一种全折射式投影光学系统

摘要

本发明公开了一种用于半导体光刻领域的全折射式投影光学系统，选择透过率都大于99.9％的两种光学材料，在宽带光(g线、h线)工作条件下，像方数值孔径达到0.25，像方视场较大(视场半径24.6mm)，放大倍率为－1倍，可以达到很高的成像质量(斯特列尔比Strehl Ratio大于0.96)，同时，最大远心角误差小于0.16°＝2.8mrad，倍率误差为－1.7ppm。本发明的投影光学系统，其物方和像方工作距离都达到15.312mm，而光学总长小于1000mm。本发明的投影光学系统，各项指标均达到实际应用的要求，足以应用于凸块(Bumping)封装光刻机44mm×22mm尺寸芯片封装的技术要求，并且选择高透过率光学材料，可以适用于大剂量曝光要求。

主权项

1、一种全折射式投影光学系统，沿其光轴方向从物面到像面依次排列前组、孔径光阑和后组，其特征在于：所述前组和所述后组的透镜组件以所述孔径光阑为对称面光学结构完全对称；所述前组从物面一侧顺次排列第一透镜、第二透镜、第三透镜、第四透镜、第五透镜、第六透镜、第七透镜、第八透镜、第九透镜；所述后组从物面一侧顺次排列第十透镜、第十一透镜、第十二透镜、第十三透镜、第十四透镜、第十五透镜、第十六透镜、第十七透镜、第十八透镜；所述孔径光阑放置于所述第九透镜和所述第十透镜之间。