发明名称 |
减少应力导致孔洞形成的线路结构 |
摘要 |
本发明是关于一种减少应力导致孔洞形成的线路结构,线路结构具有第一导电层,第一导电层包括一大区域部分,连接于突出部的一端,而突出部具有复数个“n”重叠部分与至少一弯曲部分。突出部的另一端连接介层窗的底部,介层窗之上具有一第二导电层。弯曲部是由重叠两相邻重叠部分的该端而形成,且其具有一角度介于45°至135°。突出部也可包括至少一延伸部,位于向着一弯曲部的一部分中。弯曲部分与延伸部是用做为障碍物,以延缓空缺由大区域部分扩散至介层窗的附近地区,特别是有用于铜内连线或用在介层窗测试结构。 |
申请公布号 |
CN100424848C |
申请公布日期 |
2008.10.08 |
申请号 |
CN200410091278.0 |
申请日期 |
2004.12.01 |
申请人 |
台湾积体电路制造股份有限公司 |
发明人 |
王建荣;范淑贞;胡顶达;陈学忠 |
分类号 |
H01L21/66(2006.01);H01L23/52(2006.01) |
主分类号 |
H01L21/66(2006.01) |
代理机构 |
北京中原华和知识产权代理有限责任公司 |
代理人 |
寿宁;张华辉 |
主权项 |
1. 一种减少应力导致孔洞形成的线路结构,形成于一半导体基材上,其特征在于其包括:一介层窗;一第一金属层,位于该介层窗之下,包括:一第一金属线与一第二金属线,二者各包括依序电性相接的一第一部分、一中间部分与一第三部分,上述第一部分与该介层窗的底部相接,上述中间部分具有相接的复数个子部分,其中任二相邻的上述子部分之间是以45°至135°的一角度相接;以及一第一与一第二焊垫,分别连接该第一金属层中的该第一与该第二金属线的上述第三部分;一第二金属层,位于该介层窗之上,包括:一第三金属线与第四金属线,二者各包括依序电性相接的一第一部分、一中间部分与一第三部分,上述第一部分与该介层窗的顶部相接,该中间部分具有相接的复数个子部分,其中任二相邻的上述子部分之间是以45°至135°的一角度相接;以及一第一与一第二焊垫,分别连接该第一金属层中的该第一与该第二金属线的上述第三部分。 |
地址 |
台湾省新竹科学工业园区新竹市力行六路8号 |