发明名称 以剥除法制作图案化膜层的方法
摘要 本发明公开了一种以剥除法制作图案化膜层的方法。此方法是先在基板上形成图案化堆叠层,图案化堆叠层是由牺牲层与光致抗蚀剂层所构成,其中光致抗蚀剂层覆盖并延伸突出于上述牺牲层之外。随后,在图案化堆叠层上以及图案化堆叠层之中的间隙形成一膜层,此膜层的厚度小于牺牲层的厚度。其后,以剥除法移除光致抗蚀剂层以及光致抗蚀剂层上的膜层。之后,再移除牺牲层。
申请公布号 CN101201422A 申请公布日期 2008.06.18
申请号 CN200610165953.9 申请日期 2006.12.11
申请人 联诚光电股份有限公司 发明人 格培文;官大双
分类号 G02B5/23(2006.01);H01L21/02(2006.01);G03F7/20(2006.01);G03F7/26(2006.01) 主分类号 G02B5/23(2006.01)
代理机构 北京市柳沈律师事务所 代理人 陶凤波
主权项 1.一种以剥除法制作图案化膜层的方法,包括:提供基板;在该基板上形成图案化堆叠层,该图案化堆叠层是由牺牲层与光致抗蚀剂层所构成,且该光致抗蚀剂层覆盖并延伸突出于该牺牲层之外;在该图案化堆叠层上以及该图案化堆叠层之中的间隙形成膜层,该膜层的厚度小于该牺牲层的厚度;以剥除法移除该光致抗蚀剂层以及该光致抗蚀剂层上的该膜层;以及移除该牺牲层。
地址 中国台湾新竹科学工业园区