发明名称 |
以剥除法制作图案化膜层的方法 |
摘要 |
本发明公开了一种以剥除法制作图案化膜层的方法。此方法是先在基板上形成图案化堆叠层,图案化堆叠层是由牺牲层与光致抗蚀剂层所构成,其中光致抗蚀剂层覆盖并延伸突出于上述牺牲层之外。随后,在图案化堆叠层上以及图案化堆叠层之中的间隙形成一膜层,此膜层的厚度小于牺牲层的厚度。其后,以剥除法移除光致抗蚀剂层以及光致抗蚀剂层上的膜层。之后,再移除牺牲层。 |
申请公布号 |
CN101201422A |
申请公布日期 |
2008.06.18 |
申请号 |
CN200610165953.9 |
申请日期 |
2006.12.11 |
申请人 |
联诚光电股份有限公司 |
发明人 |
格培文;官大双 |
分类号 |
G02B5/23(2006.01);H01L21/02(2006.01);G03F7/20(2006.01);G03F7/26(2006.01) |
主分类号 |
G02B5/23(2006.01) |
代理机构 |
北京市柳沈律师事务所 |
代理人 |
陶凤波 |
主权项 |
1.一种以剥除法制作图案化膜层的方法,包括:提供基板;在该基板上形成图案化堆叠层,该图案化堆叠层是由牺牲层与光致抗蚀剂层所构成,且该光致抗蚀剂层覆盖并延伸突出于该牺牲层之外;在该图案化堆叠层上以及该图案化堆叠层之中的间隙形成膜层,该膜层的厚度小于该牺牲层的厚度;以剥除法移除该光致抗蚀剂层以及该光致抗蚀剂层上的该膜层;以及移除该牺牲层。 |
地址 |
中国台湾新竹科学工业园区 |