发明名称 用于执行OPC验证的方法和系统
摘要 本发明提供了一种用于执行光学邻近效应修正(“OPC”)验证的方法,其中使用与光掩膜形状、要使用光掩膜获得的空间图像或要使用光掩膜在感光层获得的光刻胶图像相关的数据来识别光掩膜的受关注特征。识别包含所识别的受关注特征的光掩膜、空间图像或光刻胶图像的多个区域,其中多个所识别的区域占用基本上比特征所占用的光掩膜的整个区域更小的区域。然后,执行限于多个所识别的区域的增强的OPC验证以识别光掩膜、空间图像或光刻胶图像中至少一个所存在的问题。
申请公布号 CN101201874A 申请公布日期 2008.06.18
申请号 CN200710192755.6 申请日期 2007.11.16
申请人 国际商业机器公司 发明人 J·A·布鲁斯;G·J·迪克;D·P·珀利;J·G·斯莫林斯基
分类号 G06F17/50(2006.01);G03F1/14(2006.01) 主分类号 G06F17/50(2006.01)
代理机构 北京市金杜律师事务所 代理人 王茂华
主权项 1.一种执行光学邻近效应修正(“OPC”)验证的方法,包括使用一个或多个信息处理系统来执行以下步骤:使用与光掩膜形状相关的数据、与要使用所述光掩膜获得的空间图像相关的数据或与要使用所述光掩膜在感光层获得的光刻胶图像相关的数据中的至少一个来识别受关注特征;识别包含所述所识别的受关注特征的所述光掩膜、所述空间图像或所述光刻胶图像中至少一个的多个区域,所述多个所识别的区域占用基本上比特征所占用的所述光掩膜的整个区域更小的区域;执行增强的OPC验证,所述增强的OPC验证限于所述多个所识别的区域;以及基于执行所述增强的OPC验证的结果确定所述光掩膜、所述空间图像或所述光刻胶图像中至少一个可能存在的问题。
地址 美国纽约阿芒克