发明名称 | 用于光刻蚀法的涂料组合物 | ||
摘要 | 提供一种用于光刻蚀法的涂料组合物,其包括一种或多种含有一种或多种改性的二酰亚胺基团的树脂。这些涂料组合物被特别用作外涂的光致抗蚀剂层的抗反射层。优选的体系可被热处理以增加所述组合物涂料层的亲水性,从而阻止与外涂的有机组合物层的不希望的混合,而在使用碱性水溶液光致抗蚀剂显影剂时可使得组合物涂料层是可移除的。 | ||
申请公布号 | CN101201542A | 申请公布日期 | 2008.06.18 |
申请号 | CN200710170198.8 | 申请日期 | 2007.09.26 |
申请人 | 罗门哈斯电子材料有限公司 | 发明人 | A·赞皮尼;M·K·噶拉格尔;V·简恩;O·昂格伊 |
分类号 | G03F7/004(2006.01);C09D201/02(2006.01) | 主分类号 | G03F7/004(2006.01) |
代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人 | 沙永生 |
主权项 | 1.一种电子器件的制备方法,其包括:在基底上施涂有机组合物,所述有机组合物包括一种或多种含有改性二酰亚胺基团的树脂;以及在所述有机组合物上施涂另外的组合物。 | ||
地址 | 美国马萨诸塞州 |