发明名称 | 微影制程监测标记用光罩图案及其应用 | ||
摘要 | 一种微影制程监测标记用光罩图案,以及利用其之监测微影制程的方法。此光罩图案包括一不透光或半透光层,其中形成有至少一列沿短轴方向排列的多个扁菱形开口,以及位于扁菱形开口旁的一空洞;并包括位于此空洞中的至少一列沿短轴方向排列的多个扁菱形图形,其材质与前述不透光或半透光层相同。微影制程监测方法则是在光罩上的图案转移至一光阻层之后,检查光阻层中对应该至少一列扁菱形开口的至少一沟渠的边缘及对应该至少一列扁菱形图形之至少一条状光阻图形的边缘是否皆呈锯齿状,如是则表示该微影制程符合要求,反之则否。 | ||
申请公布号 | TW200826153 | 申请公布日期 | 2008.06.16 |
申请号 | TW095146207 | 申请日期 | 2006.12.11 |
申请人 | 力晶半导体股份有限公司 | 发明人 | 林柏青;马传泰 |
分类号 | H01L21/027(2006.01) | 主分类号 | H01L21/027(2006.01) |
代理机构 | 代理人 | 詹铭文;萧锡清 | |
主权项 | |||
地址 | 新竹市新竹科学工业园区力行一路12号 |