基板之显像处理方法及基板之显像处理装置

摘要

本发明系提供一种不致发生当将基板上的显像液取代为清洗液之际,依照基板面内的位置不同,出现显像液浓度差之类的情况,可防止在阻剂膜面发生污点状缺陷,且能减少显像液使用量的方法。将基板W利用旋转夹具保持为水平姿势,并一边利用旋转马达围绕铅直轴进行旋转,一边从显像液喷出喷嘴朝基板表面的阻剂膜上供应显像液,而施行显像处理后,接着便使基板旋转,而将阻剂膜上的显像液利用离心力飞散去除,在基板表面无出现干涉条纹之时,便从纯水喷出喷嘴朝阻剂膜上供应清洗液而施行清洗处理。