应用于面内位移之光学量测装置

摘要

一种应用于面内位移之光学量测装置,是以光学的方式量测晶片的待测表面的形变量,并包含光束发射器、发散件、分光件、影像撷取器,及影像处理器,且自光束发射器发射的同调性高的线光束首先通过发散件而发散为面光束,接着,通过分光件而形成第一光线及第二光线,再分别沿第一、二光路入射至待测表面,并以影像撷取器撷取经该待测表面反射后的第一、二光线形成的干涉图像,再输入影像处理器作即时的数位影像处理,藉由与参考图像的对照比较以获得待测表面的形变量,因此,可非接触式地动态量测待测表面的全场形变量。