发明名称 蚀刻液组成物
摘要 本发明系关于一种氧化铟锡透明导电膜用之蚀刻液组成物,其含有:草酸、磺酸缩合物或其盐、盐酸、硫酸、水溶性胺中之至少一种、以及水。该蚀刻液组成物不仅对于基板上无底膜状态下所形成之透明导电膜,即使对于基板上的底膜上所形成之透明导电膜,蚀刻残渣去除性能亦优异,可以抑制发泡且不会有固态物析出,因此和知品相比液体寿命长。
申请公布号 TW200826193 申请公布日期 2008.06.16
申请号 TW096132711 申请日期 2007.09.03
申请人 长濑化成股份有限公司 发明人 山边崇史;西佳孝;安江秀国;向喜广
分类号 H01L21/308(2006.01) 主分类号 H01L21/308(2006.01)
代理机构 代理人 桂齐恒;阎启泰
主权项
地址 日本
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