发明名称 相变化记忆体元件及其制造方法
摘要 一种相变化记忆体元件。一相变化柱位于第一相变化层上,一第二相变化层位于相变化柱上,一下电极电性连接第一相变化层,及一上电极电性连接第二相变化层。
申请公布号 TW200826281 申请公布日期 2008.06.16
申请号 TW095145937 申请日期 2006.12.08
申请人 财团法人工业技术研究院;力晶半导体股份有限公司 POWERCHIP SEMICONDUCTOR CORP. 新竹市新竹科学工业园区力行一路12号;南亚科技股份有限公司 NANYA TECHNOLOGY CORPORATION. 桃园县龟山乡华亚科技园区复兴三路669号;茂德科技股份有限公司 PROMOS TECHNOLOGIES INC. 新竹市新竹科学工业园区力行路19号3楼;华邦电子股份有限公司 WINBOND ELECTRONICS CORP. 新竹市新竹科学工业园区研新三路4号 发明人 陈颐承;陈达
分类号 H01L27/115(2006.01) 主分类号 H01L27/115(2006.01)
代理机构 代理人 洪澄文;颜锦顺
主权项
地址 新竹县竹东镇中兴路4段195号