发明名称 A blank mask for fabrication of alternating phase shift mask
摘要
申请公布号 KR100594221(B1) 申请公布日期 2006.07.03
申请号 KR20000047148 申请日期 2000.08.16
申请人 发明人
分类号 H01L21/027 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
主权项
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