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发明名称
METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR FOR PLANARIZATION IN DAMASCENE GATE PROCESS
摘要
申请公布号
KR100578231(B1)
申请公布日期
2006.05.12
申请号
KR20000036828
申请日期
2000.06.30
申请人
发明人
分类号
H01L21/28
主分类号
H01L21/28
代理机构
代理人
主权项
地址
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