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发明名称 METHOD OF FORMING DUAL GATE OXIDE FILM IN SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要
申请公布号 KR20060036281(A) 申请公布日期 2006.04.28
申请号 KR20040085448 申请日期 2004.10.25
申请人 MAGNACHIP SEMICONDUCTOR, LTD. 发明人 KIM, TAE WOO
分类号 H01L21/336 主分类号 H01L21/336
代理机构 代理人
主权项
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