基板处理装置以及基板处理方法

摘要

本发明提供一种基板处理装置，其具有分度器模块、反射防止膜用处理模块、抗蚀膜用处理模块、显影处理模块、抗蚀盖膜用处理模块、抗蚀盖膜除去模块以及接口模块。以相邻于接口模块的方式配置曝光装置。在抗蚀膜用处理模块中，在基板上形成抗蚀膜。在曝光装置中对基板进行曝光处理之前，在抗蚀盖膜用处理模块中在抗蚀膜上形成抗蚀盖膜。

主权项

1.一种基板处理装置，以相邻于曝光装置的方式配置，该曝光装置在基板和液体接触的状态下对基板进行曝光处理，其特征在于，具有用于对基板进行处理的处理部，以及以相邻于上述处理部的一端部的方式设置且在上述处理部和上述曝光装置之间进行基板的交接的交接部；上述交接部包含在上述处理部和上述曝光装置之间搬送基板的搬送装置；上述处理部包含：在基板上形成由感光性材料构成的感光性膜的第一处理单元；在由上述曝光装置进行曝光处理之前，在基板上形成保护上述感光性膜的保护膜的第二处理单元，该保护膜由氟树脂构成；以及，在由上述曝光处理进行曝光处理之后，对基板进行显影处理的第三处理单元。