发明名称 |
微影装置、元件制造方法及电脑可读取媒体 |
摘要 |
在一微影装置中,使用一照明模式执行一校正照射程序,该照明模式经配置以使得加热投影系统中靠近其一光瞳平面之一元件之选定部分,该选定部分在生产曝光期间为相对未经加热的。该校正照射程序目的在于改良该投影系统之光学元件加热之非均一性及/或减少一相位梯度。 |
申请公布号 |
TW200844669 |
申请公布日期 |
2008.11.16 |
申请号 |
TW096143726 |
申请日期 |
2007.11.19 |
申请人 |
ASML荷兰公司 |
发明人 |
裘朵卡斯 玛利 多明尼克斯 史托卓杰;艾利克 罗洛夫 路普斯塔;海茵 梅尔 莫德;提姆瑟 法兰西斯 参格;佛利克 安德利安 史托菲尔丝;劳伦提斯 卡瑞纳 乔瑞斯马;雷纳 玛丽亚 强布洛特 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01);H01L21/027(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
陈长文 |
主权项 |
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地址 |
荷兰 |