光阻膜之形成方法及感光性组成物

摘要

本发明系提供一种阻焊膜之形成方法，其系将感光性组成物涂布于基材，使其乾燥后，于该乾燥涂膜，照射第1雷射光及与前述第1雷射光的波长相异之第2雷射光，被前述第1雷射光及第2雷射光两者照射之图型潜像形成后，以硷水溶液显像。而且，本发明的阻焊膜之形成方法所使用的感光性组成物，其曝光前的乾燥涂膜系厚度每25μm，于355～380nm的波长范围下显示0.6～1.2的吸光度，且于405nm的波长下显示0.3～0.6的吸光度。