发明名称 |
用于薄膜电晶体液晶显示装置之蚀刻液组成物 |
摘要 |
本发明系提供一种优良的蚀刻液,可保障高度稳定性及制程范围,而对于含铜金属层形成均等之锥形蚀刻。本发明之解决方法系有关将液晶显示装置之回路模式上所使用的铜配线蚀刻之蚀刻液组成物。本发明之蚀刻组成物含有过硫酸铵及 咯系化合物。本发明之蚀刻组成物由于不含过氧化氢,故可确保稳定性及制程范围而获得优良之锥形轮廓。 |
申请公布号 |
TW200844215 |
申请公布日期 |
2008.11.16 |
申请号 |
TW097108299 |
申请日期 |
2008.03.10 |
申请人 |
东进世美肯有限公司 |
发明人 |
郑锺铉;朴弘植;洪瑄英;金俸均;李智鲜;李炳珍;李骐范;三永;具炳秀;申贤哲;徐源国;朴贵弘;河泰成 |
分类号 |
C09K13/00(2006.01);H01L21/3063(2006.01) |
主分类号 |
C09K13/00(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
恽轶群;陈文郎 |
主权项 |
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地址 |
南韩 |