描绘系统、描绘装置及描绘方法

摘要

本发明提供一种描绘系统、描绘装置及描绘方法，其能够在多台描绘装置或多个描绘处理部中，使用来自一个光源的光同时进行描绘处理和其它处理，能够提高激光的工作率和基板的制造效率。描绘系统(100)将从激光振荡器(110)射出的脉冲光分割为主脉冲光和副脉冲光，将主脉冲光和副脉冲光交替分配给第一描绘装置(1a)和第二描绘装置(1b)。因此，能够在两台描绘装置(1a、1b)中，并行交替地进行使用了主脉冲光的描绘处理和使用了副脉冲光的校准处理。由此，能够提高激光振荡器(110)的工作率和基板(9)的制造效率。

主权项

1.一种描绘系统，其具有描绘装置，该描绘装置通过对基板照射光，从而在形成于基板上的感光材料上描绘规定的图案，其特征在于，具有：光源，分配装置，其将从上述光源射出的光分割为多个分割光，并且将上述多个分割光分配到多个光路，多个上述描绘装置，其分别配置在上述多个光路上；上述多个分割光包括光强度比其它分割光高的一束描绘用分割光，上述分配装置将上述描绘用分割光顺次分配到上述多个光路。