空间相锁定扫描电子束蚀刻方法

摘要

空间相锁定扫描电子束蚀刻方法，其目的是对电子束的位置进行高精度的实时测量，使电子束的位置测量精度达到1nm，在电子束蚀刻胶膜上蒸镀一层SiO膜，再在其上蒸镀一层Cu膜，在Cu膜上面涂一层的紫外光光学感光胶，用激光干涉蚀刻方法进行两次正交曝光，获得一基准网格，采用通用的扫描电子束蚀刻方法，通过探测基准网格发射的二次电子信号，确定电子束的空间位置。本发明在电子束感光材料上面制造一个光栅常数较大的基准网格，通过测量基准网格的二次电子信号的位相来确定电子束位置，实现了在书写过程中对电子束位置进行连续测量，并且可以精确控制各点的曝光剂量。

主权项

1、空间相锁定扫描电子束蚀刻方法，其特征在于在电子束蚀刻胶膜上蒸镀一层SiO膜，再在其上蒸镀一层Cu膜，在Cu膜上面涂一层的紫外光光学感光胶，用激光干涉蚀刻方法进行两次正交曝光，获得一基准网格，采用通用的扫描电子束蚀刻方法，通过探测基准网格发射的二次电子信号，确定电子束的空间位置。