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发明名称
具相分离介电结构之装置及其相关应用
摘要
一种电子装置,其系以任何序列包括:(a)半导体层;及(b)相分离介电结构,其包含低k介电聚合物及高k介电聚合物,其中在介电结构最接近半导体层之区域,低k介电聚合物之浓度系比高k介电聚合物还高。
申请公布号
TW200849687
申请公布日期
2008.12.16
申请号
TW097111665
申请日期
2008.03.31
申请人
全录股份有限公司
发明人
吴怡良;哈迪K 马哈巴狄;翁班;保罗F 史密斯
分类号
H01L51/05(2006.01);H01L29/786(2006.01)
主分类号
H01L51/05(2006.01)
代理机构
代理人
何金涂;王彦评
主权项
地址
美国
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