| 摘要 |
一种用于微奈米转印之均压装置，是可压印一基板，包含一具有一支撑容器、一均压液体、一加压设备的下施压单元、一相反于该下施压单元的上施压单元，及一成型模具，该支撑容器具有一开口朝上的容置空间，及一朝向该基板的顶环面，该均压液体是容置于该容置空间内，该基板底面是抵接于该顶环面上，而将该容置空间封闭，该加压设备具有一延伸至该容置空间内的活塞，该活塞可沿一轴向朝该基板推压该均压液体，该成型模具是设置于该基板顶面与该上施压单元之间，并具有一朝向该基板顶面的成型面，该成型模具的成型面是被该上施压单元抵紧于该基板顶面上。 |
