| 摘要 |
Способ проведения теневой трафаретной рентгеновской литографии, при котором рентгеношаблон, содержащий несущую мембрану со сформированным на ее рабочей поверхности металлическим рентгенопоглощающим топологическим рисунком и обрабатываемую подложку с нанесенным на ее рабочую поверхность слоем рентгенорезиста, размещают на пути следования синхротронного излучения, причем ближе к источнику излучения располагают рентгеношаблон, а вышеуказанные рабочие поверхности располагают отстоящими друг от друга на сравнительно небольшом зазоре, параллельно друг другу и ортогонально падающему экспонирующему излучению, отличающийся тем, что в зазор вводят прозрачную для экспонирующего излучения полимерную пленку. |
