发明名称 纳米尺度故障离析和测量系统
摘要 公开了一种故障离析和测量系统,所述系统提供了共同平台上的多近场扫描离析技术。所述系统结合了专用夹具(102)的使用以对于位于器件或材料(210)的区域内的内部电路结构提供电偏置。所述系统还使用了多探针组件(104)。各探针安装于共同参考点(461)周围的支撑结构上并且是不同的测量或故障离析工具的元件。所述组件移动使得各探针可以从所述器件或材料上的相同的固定位置获得测量。支撑结构和/或夹具的相对位置可以被改变,以便从所述区域内多个相同固定位置获得测量。另外,所述系统使用处理器以提供与各信号相关的分层图像并且使得这些图像与设计数据精确地匹配以便表征,或离析所述器件或材料内的故障位置。
申请公布号 CN101322037A 申请公布日期 2008.12.10
申请号 CN200680045028.0 申请日期 2006.11.23
申请人 国际商业机器公司 发明人 戴维·P·瓦利特;西奥多·莱文;菲利普·卡斯祖巴
分类号 G01R31/28(2006.01) 主分类号 G01R31/28(2006.01)
代理机构 北京市柳沈律师事务所 代理人 张波
主权项 1.一种从具有电特性的物体的预定区获取数据的系统,所述系统包括:电连接至所述物体的所述预定区中多个不同导电结构的夹具,使得施加至所述夹具的电刺激偏置所述预定区;和多探针组件,包括:共同参考点;和从所述共同参考点延伸的多个臂,其中各所述臂包括具有适于通过感测参数和施加能量源之一而评估所述物体的装置的探针,并且其中所述共同附着点和所述多个臂之一适于移动,以便允许各所述装置在所述预定区中的相同的固定位置评估所述物体。
地址 美国纽约