发明名称 |
透明导电性膜及触摸屏 |
摘要 |
本发明的透明导电性膜在透明膜基材的一个侧面有硬涂层,进而在该硬涂层上有通过干法工艺形成的10~300nm厚的SiO<SUB>X</SUB>膜,在透明膜基材的另一个侧面有20~35nm厚的透明导电性薄膜。所述的透明导电性膜具有良好的耐湿热性,笔输入耐久性优异,在冲压加工时能抑制裂纹的产生,良好的耐湿热性,即使在高温高湿的环境下,也能抑制膨胀或卷曲的产生。 |
申请公布号 |
CN100442083C |
申请公布日期 |
2008.12.10 |
申请号 |
CN200580028853.5 |
申请日期 |
2005.09.27 |
申请人 |
日东电工株式会社 |
发明人 |
梨木智刚;菅原英男;安藤豪彦;吉武秀敏 |
分类号 |
G02B1/10(2006.01);B32B9/00(2006.01);C23C14/06(2006.01);G06F3/041(2006.01);H01B5/14(2006.01) |
主分类号 |
G02B1/10(2006.01) |
代理机构 |
北京集佳知识产权代理有限公司 |
代理人 |
苗堃;刘继富 |
主权项 |
1、一种触摸屏用透明导电性膜,其特征在于,在透明膜基材的一个侧面有硬涂层,进而在该硬涂层上有由干法工艺形成的10~300nm厚的SiOX膜,在透明膜基材的另一个侧面有20~35nm厚的透明导电性薄膜。 |
地址 |
日本大阪府 |