| 发明名称 | 膜图案的形成方法和器件的制法、电光学装置和电子仪器 | ||
| 摘要 | 本发明提供：可以高精度、均匀形成微细化或细线化的膜图案的膜图案的形成方法。所述方法包括：在基板(P)上形成表面已疏液化的第一贮格围堰(B1)的工序；在由第一贮格围堰(B1)所划分的区域内配置第一功能液(L1)的工序；干燥第一功能液(L1)的工序；在第一贮格围堰(B1)上形成第二贮格围堰(B2)的工序；在第二贮格围堰(B2)所划分的区域，配置第二功能液(L2)的工序。在本发明中，配置第一功能液(L1)的工序与配置第二功能液(L2)的工序之间，设了使第一贮格围堰(B1)表面亲液处理的工序。由此，提高了第二功能液(L2)与作为基底的第一贮格围堰(B1)之间的湿润性，可以形成良好的第二膜图案(F2)。 | ||
| 申请公布号 | CN100439986C | 申请公布日期 | 2008.12.03 |
| 申请号 | CN200610009045.0 | 申请日期 | 2006.02.17 |
| 申请人 | 精工爱普生株式会社 | 发明人 | 平井利充;守屋克之 |
| 分类号 | G02F1/133(2006.01);G02F1/136(2006.01);H01L51/00(2006.01);G09F9/30(2006.01) | 主分类号 | G02F1/133(2006.01) |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 汪惠民 |
| 主权项 | 1、一种膜图案的形成方法，是在基板上配置功能液而形成膜图案的方法，其特征在于，包括：在所述基板上，形成表面已被疏液化的第一贮格围堰的工序；在由所述第一贮格围堰所划分的区域内配置第一功能液的工序；干燥所述第一功能液并形成第一膜图案的工序；在所述第一贮格围堰上形成第二贮格围堰的工序；和在由所述第二贮格围堰所划分的区域内配置第二功能液的工序；配置所述第一功能液的工序与形成所述第二贮格围堰的工序之间，具有将所述第一贮格围堰的表面进行亲液处理的工序。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||