发明名称 | 成膜装置及成膜方法 | ||
摘要 | 所揭示之成膜装置具有:处理容器,在内部维持减压空间,供给成膜气体之处理容器;基板保持部,被设置在处理容器之内部,保持基板;和加热器,藉由含有高熔点金属和碳之化合物所构成,被设置在处理容器之内部,加热基板。 | ||
申请公布号 | TW200847242 | 申请公布日期 | 2008.12.01 |
申请号 | TW096149754 | 申请日期 | 2007.12.24 |
申请人 | 东京威力科创股份有限公司 | 发明人 | 森崎英介;小林洋克;原岛正幸 |
分类号 | H01L21/205(2006.01) | 主分类号 | H01L21/205(2006.01) |
代理机构 | 代理人 | 林志刚 | |
主权项 | |||
地址 | 日本 |