发明名称 成膜装置及成膜方法
摘要 所揭示之成膜装置具有:处理容器,在内部维持减压空间,供给成膜气体之处理容器;基板保持部,被设置在处理容器之内部,保持基板;和加热器,藉由含有高熔点金属和碳之化合物所构成,被设置在处理容器之内部,加热基板。
申请公布号 TW200847242 申请公布日期 2008.12.01
申请号 TW096149754 申请日期 2007.12.24
申请人 东京威力科创股份有限公司 发明人 森崎英介;小林洋克;原岛正幸
分类号 H01L21/205(2006.01) 主分类号 H01L21/205(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本