发明名称 |
甩动式混合均匀装置 |
摘要 |
一种甩动式混合均匀装置,包含一个枢转单元、一个组装于枢转单元上的甩动箱单元、及一个与该甩动箱单元组接的驱动单元。该甩动箱单元是可以该枢转单元为支点枢转地组装于该枢转单元侧边,该驱动单元连接于甩动箱单元一侧,并可驱使甩动箱单元以枢转单元为支点相对枢转单元于一回正位置与一倾摆位置间往复枢摆甩动。通过甩动箱的甩动设计,可使倒立放置于甩动箱中的容器内的研磨浆可冲击打散沉积的高粘稠度研磨微粒。 |
申请公布号 |
CN100437253C |
申请公布日期 |
2008.11.26 |
申请号 |
CN200510102626.4 |
申请日期 |
2005.09.12 |
申请人 |
长兴开发科技股份有限公司 |
发明人 |
李家浩 |
分类号 |
G02F1/1333(2006.01);B01F11/00(2006.01) |
主分类号 |
G02F1/1333(2006.01) |
代理机构 |
北京林达刘知识产权代理事务所 |
代理人 |
刘新宇 |
主权项 |
1.一种甩动式混合均匀装置,其特征在于:包含一个枢转单元、一个组装于枢转单元上的甩动箱单元、及一个与该甩动箱单元组接的驱动单元,该枢转单元包括一个枢转轴,该甩动箱单元包括一个以该枢转轴为摆动支轴枢转地组装于该枢转轴侧边的甩动箱,该驱动单元是连接于甩动箱一侧,且该驱动单元包括一个驱转件、及一个组装于驱转件上的偏摆机构,该驱转件具有一个主体部、及一个自主体部往外水平凸伸并可被主体部驱转的驱转轴部,且该驱转轴部轴线与枢转轴平行,该偏摆机构是组装于驱转轴部上,且可被驱转轴部驱动而绕驱转轴部轴线进行圆周回转枢摆,并连动驱使甩动箱以枢转轴为支轴相对枢转单元于一回正位置与一倾摆位置间往复枢摆甩动。 |
地址 |
中国台湾高雄县冈山镇忠孝里励志二路2号1楼 |