发明名称 | 一种用于非电化学金属沉积法加工硅晶片的反应装置 | ||
摘要 | 一种用于非电化学金属沉积法加工硅晶片的反应装置,由外承压密闭容器和内反应罐组成;内反应罐由罐盖、罐体和搁置架构成;罐体和罐盖为螺纹连接的封闭容器;搁置架为半圆筒形结构,在半圆筒的内壁开出间距相等的搁置槽,搁置架的顶部设有可方便移动搁置架的卡入式横梁;内反应罐的所有部件均由聚四氟乙烯制成;外承压密闭容器可使用市售符合国家标准的炊用压力锅。本实用新型的优点是结构简单、操作简便、安全可靠;内反应罐的连接方式使其密封效果更好;外承压密闭容器承压要求较低,可直接使用市售符合国家标准的炊用压力锅进行操作,大大降低生产成本;采用该搁置架可大大提高反应效率,实现硅晶片加工的规模化生产。 | ||
申请公布号 | CN201151741Y | 申请公布日期 | 2008.11.19 |
申请号 | CN200720305900.2 | 申请日期 | 2007.11.23 |
申请人 | 国家纳米技术与工程研究院 | 发明人 | 赵嘉昊;邓飞 |
分类号 | C23C16/44(2006.01) | 主分类号 | C23C16/44(2006.01) |
代理机构 | 代理人 | ||
主权项 | 1.一种用于非电化学金属沉积法加工硅晶片的反应装置,其特征在于:由外承压密闭容器和内反应罐组成;内反应罐由罐盖、罐体和搁置架构成;罐体和罐盖为螺纹连接的封闭容器,其中罐体为外螺纹;搁置架为半园筒形结构,在半园筒的内壁开出间距相等的搁置槽,搁置架的顶部设有可方便移动搁置架的卡入式横梁。 | ||
地址 | 300457天津市经济技术开发区第四大街80号 |