| 发明名称 | 基板处理装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种基板处理装置，能与等离子处理装置处理速度匹配，还能提高其它处理装置的处理速度。盖基板处理装置具有一对基板盒(1、1)、输送装置(2)、一对清洗装置(供液装置)(3、3)、操作机械手(4)、冷却装置(5)、一对载置室(6、6)及一对灰化装置(等离子处理装置)(7、7)。冷却装置(5)包括冷却剂循环的冷却板(51)和将基板(W)载置于冷却板(51)上的升降支柱(52)，特别是冷却板(51)是上下两个层的，所述升降支柱(52)插设于各冷却板(51)上的通孔(53)中，而且各升降支柱(52)安装在共同的支撑部件(54)上，驱动气缸使支撑部件(54)升降，由此同时使两个基板(W)升降移动。而且，由罩(31)和夹子(32)构成的清洗装置(3)也可以与冷却装置(5)一样是多层式的。 | ||
| 申请公布号 | CN100433247C | 申请公布日期 | 2008.11.12 |
| 申请号 | CN200510103815.3 | 申请日期 | 2005.07.29 |
| 申请人 | 东京応化工业株式会社 | 发明人 | 中村彰彦 |
| 分类号 | H01L21/00(2006.01) | 主分类号 | H01L21/00(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 胡强 |
| 主权项 | 1、基板处理装置，它配备有对基板实施等离子处理的等离子处理装置、对完成等离子处理的所述基板进行冷却的冷却装置、向冷却后的所述基板供给清洗液的供液装置，其特征在于，所述冷却装置和所述供液装置是多层式。 | ||
| 地址 | 日本川崎市 | ||