| 发明名称 | 用于厚的光致抗蚀剂层的可显影底涂组合物 | ||
| 摘要 | 本发明涉及用于光致抗蚀剂的底涂组合物，含有在碱性显影剂水溶液中不溶、但在显影前变得可溶的聚合物，和当暴露在辐射下时将产生强酸的光致产酸剂，而且所述聚合物在曝光辐射下是透明的。本发明还涉及使底涂组合物成像的方法。 | ||
| 申请公布号 | CN101305321A | 申请公布日期 | 2008.11.12 |
| 申请号 | CN200680041865.6 | 申请日期 | 2006.11.08 |
| 申请人 | AZ电子材料美国公司 | 发明人 | M·A·托克西;J·E·奥波兰德;S·K·穆伦 |
| 分类号 | G03F7/039(2006.01);G03F7/095(2006.01) | 主分类号 | G03F7/039(2006.01) |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 王健 |
| 主权项 | 1、用于光致抗蚀剂的底涂组合物，包含在碱性显影剂水溶液中不溶、但在显影前变得可溶的聚合物，和在曝光辐射下产生强酸的光致产酸剂，而且所述聚合物在曝光辐射下是透明的。 | ||
| 地址 | 美国新泽西 | ||