发明名称 |
Verankerungsstruktur und Verkrallungsstruktur |
摘要 |
Eine Verankerungsstruktur (200) für eine Metallstruktur (210) eines Halbleiterbauelements umfasst eine Verankerungsausnehmungsstruktur (220) mit wenigstens einer überhängenden Seitenwand (230), wobei die Metallstruktur (210) wenigstens teilweise in der Verankerungsausnehmungsstruktur (220) angeordnet ist.
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申请公布号 |
DE102007020263(A1) |
申请公布日期 |
2008.11.06 |
申请号 |
DE20071020263 |
申请日期 |
2007.04.30 |
申请人 |
INFINEON TECHNOLOGIES AG |
发明人 |
ZUNDEL, MARKUS;SCHMALZBAUER, UWE;ZELSACHER, RUDOLF |
分类号 |
H01L23/485 |
主分类号 |
H01L23/485 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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