| 发明名称 | 一种真空镀铝膜设备 | ||
| 摘要 | 本实用新型涉及一种电镀设备，尤其涉及一种真空镀铝膜设备。其包括蒸发源，所述的蒸发源包括感应电源和坩埚，在所述的坩埚外缠绕有感应线圈，感应线圈连接着感应电源；所述的感应电源包括由晶闸管和高频变压器、电容器组成的IGBT逆变器。本实用新型主要是提供了一种铝块可以在坩埚中充分熔炼与脱气，形成稳定蒸发源，消除了大熔滴的飞溅，而且蒸发量大，镀层均匀、速率高、针孔出现几率小的真空镀铝设备；解决现有技术所存在镀铝设备容易产生铝滴飞溅和针孔的技术问题。 | ||
| 申请公布号 | CN201144277Y | 申请公布日期 | 2008.11.05 |
| 申请号 | CN200720133513.5 | 申请日期 | 2007.12.29 |
| 申请人 | 杭州晶鑫镀膜包装有限公司 | 发明人 | 陈建权 |
| 分类号 | C23C14/26(2006.01);C23C14/14(2006.01) | 主分类号 | C23C14/26(2006.01) |
| 代理机构 | 杭州杭诚专利事务所有限公司 | 代理人 | 俞润体 |
| 主权项 | 1.一种真空镀铝膜设备，包括蒸发源，其特征在于：所述的蒸发源包括感应电源和坩锅，在所述的坩锅外缠绕有感应线圈，感应线圈连接着感应电源；所述的感应电源包括由晶闸管和高频变压器、电容器组成的IGBT逆变器。 | ||
| 地址 | 311200浙江省杭州市萧山区市心北路盈丰丰北村 | ||