| 摘要 |
本发明系关于一种高度含水、强硷性平坦化溶液及其用以缩减或基本上消除自一大体上平坦之多晶矽膜表面大体上向上延伸之突起或突出的方法，该多晶矽膜系藉由使一沈积于一基板上之非晶矽膜低温多晶矽(LTPS)退火而产生；该方法包括使该大体上平坦之多晶矽膜之该表面与该高度含水、强硷性平坦化溶液接触，接触时间足以自该大体上平坦之多晶矽膜之该表面选择性地蚀刻该等突起或突出而且对该大体上平坦之多晶矽膜无任何显着蚀刻，该高度含水、强硷性溶液为具有12或更高pH值之溶液且包含水、至少一种强硷及至少一种蚀刻率控制剂。 |
