曝光方法及装置、以及元件制造方法

摘要

一种能在以液浸法进行曝光时运用且能获得高重叠精度的曝光方法。在透过投影光学系统将标线片图案之像投影于基板(P)上之投影区域(17P)的状态下，相对扫描基板(P)与投影区域(17P)以使基板(P)上的照射区域(SA1)曝光时，在不透过该投影光学系统之状态下，将测量光照射于与照射区域(SA1)相邻之照射区域(SA2~SA5)内，以测量位置资讯，并根据从此测量结果得到之照射区域(SA1)之位置资讯，控制投影区域(17P)与照射区域(SA1)之相对位置关系。