监控化学气相沈积反应腔室洁净度与洗净制程时间的方法

摘要

本发明系揭露一种监控化学气相沈积反应腔室洁净度与洗净制程时间的方法，其系利用一种会因为反应腔室杂质污染物存在，而造成材料折射率产生改变的监控层，来对反应腔室洁净度进行监控，以达到避免因反应腔室洗净时间不足，所造成的后续沈积层良率不佳的缺失，并进而提供所需洗净制程时间长度的相关讯息。