| 摘要 |
[课题]提供一种曝光绘图装置，在确保高运转率的同时，以简易的照明光学系统分离成复数个光束。[解决方式]曝光绘图装置(100)系包括：光源(10)，照射紫外线；照明光学系统(30)，将来自光源的光束成形为平行光；有孔构件(20、120)，被配置于来自照明光学系统的平行光中，具有分离成第一光束和第二光束的第一窗及第二窗；第一导光装置及第二导光装置(37-1~37-8、137-1~137-8)，导引在有孔构件被分离的平行光的第一光束及第二光束；第一及第二空间光调变装置(41)，将在第一导光装置及第二导光装置被导引的第一光束及第二光束做空间调变；以及第一及第二投影光学系统(60)，将在这些第一及第二空间光调变装置被空间调变的第一光束和第二光束导引至被曝光体。 |
