发明名称 PROCEDE POUR REALISER UN DEPOT D'ALUMINE SUR UN SUBSTRAT RECOUVERT DE SIC
摘要 L'invention concerne un procédé pour le dépôt d'un revêtement d'alumine sur une pièce dont la surface est en carbure de silicium (SiC). Ce procédé comporte les étapes suivantes :a) un dépôt sur la surface en SiC d'une sous-couche d'accroche en silicium (20) par projection plasma sous vide,b) un dépôt sur la sous-couche d'accroche en silicium (20) d'un revêtement (30) par projection thermique atmosphérique.L'invention concerne également un dispositif de mesure de déformations, qui comprend un premier revêtement (30) d'alumine par projection thermique atmosphérique disposé sur la sous-couche d'accroche en silicium déposée sur la couche de carbure de silicium recouvrant le substrat de la pièce, une jauge de déformations (40) en filament libre disposée sur le revêtement (30), et un revêtement d'alumine supplémentaire par projection thermique atmosphérique disposé sur la jauge de déformations.
申请公布号 FR2915494(A1) 申请公布日期 2008.10.31
申请号 FR20070054789 申请日期 2007.04.30
申请人 SNECMA SOCIETE ANONYME 发明人 BERTRAND PIERRE;CODDET CHRISTIAN;COSTIL SOPHIE;LEMAN FREDERIC;LUKAT SEBASTIEN
分类号 C23C28/00;C04B35/565;C23C4/02;C23C4/04;C23C4/06;C23C4/12;G01B7/16 主分类号 C23C28/00
代理机构 代理人
主权项
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