| 发明名称 | 含三氰基二氢呋喃结构单元的非线性光学聚合物材料及其制备方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种含三氰基二氢呋喃结构单元的非线性光学聚合物材料，其特征在于，其分子结构如(I)所示。本发明中含三氰基二氢呋喃结构单元的非线性光学聚合物材料，由于将三氰基二氢呋喃单体连接到高分子主链上形成交联聚合物与线性聚合物，有利于提高生色团单元的含量，大大增强了材料的宏观非线性系数；并且通过聚合物的形成，提高了材料的耐热性能与光稳定性。因此与三氰基二氢呋喃单体相比具有更高的热稳定性、光稳定性以及良好的取向性等特点。因此，它将在微电子工业、光电子工业、通信等领域中拥有广泛的应用前景。 | ||
| 申请公布号 | CN101293952A | 申请公布日期 | 2008.10.29 |
| 申请号 | CN200810045401.3 | 申请日期 | 2008.06.26 |
| 申请人 | 电子科技大学 | 发明人 | 蒋亚东;韩莉坤;李伟 |
| 分类号 | C08G61/02(2006.01);C08J5/18(2006.01);G02F1/361(2006.01) | 主分类号 | C08G61/02(2006.01) |
| 代理机构 | 代理人 | ||
| 主权项 | 1、一种含三氰基二氢呋喃结构单元的非线性光学聚合物材料，其特征在于，其分子结构如(I)所示：<img file="A2008100454010002C1.GIF" wi="1218" he="1221" />其中聚合度n＝20-400，R<sub>1</sub>和R<sub>2</sub>为烷基取代基，其化学表达式可以是：-CH<sub>3</sub>、-CH<sub>2</sub>CH<sub>3</sub>、-CH<sub>2</sub>CH<sub>2</sub>CH<sub>3</sub>、<img file="A2008100454010002C2.GIF" wi="394" he="189" /> | ||
| 地址 | 610054四川省成都市建设北路二段四号 | ||